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產(chǎn)品展示/ Product display

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油性石墨漿料研磨設(shè)備

油性石墨漿料研磨設(shè)備是電子材料領(lǐng)域?qū)S迷O(shè)備,采用高速轉(zhuǎn)定子與研磨介質(zhì)協(xié)同作用。通過(guò)撞擊、剪切效應(yīng)破解石墨團(tuán)聚,將顆粒細(xì)化至亞微米級(jí),確保分散均勻。設(shè)備密封性好、可連續(xù)運(yùn)行,適配油性體系,能保障漿料導(dǎo)電穩(wěn)定性,廣泛應(yīng)用于導(dǎo)電涂料、電池電極等生產(chǎn)場(chǎng)景。

  • 產(chǎn)品型號(hào):GMSD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-12
  • 訪  問(wèn)  量:373
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詳細(xì)介紹

油性石墨漿料研磨設(shè)備

石墨烯漿料分為兩種,以水為介質(zhì)分散叫水性,以NMP為介質(zhì)分散叫油性,石墨烯根據(jù)石墨烯原料的不同,一般含量在2.5-5的固含量之間打成漿料,影響石墨烯分散或者剝離的因素有很多,設(shè)備的選型,分散劑的使用,固含量的把握 

石墨烯有單層、雙層、多層,具體如下:

單層石墨烯(Graphene):指由一層以苯環(huán)結(jié)構(gòu)(即六角形蜂巢結(jié)構(gòu))周期性緊密堆積的碳原子構(gòu)成的一種二維碳材料。

 雙層石墨烯(Bilayer or double-layer graphene):指由兩層以苯環(huán)結(jié)構(gòu)(即六角形蜂巢結(jié)構(gòu))周期性緊密堆積的碳原子以不同堆垛方式(包括AB堆垛,AA堆垛,AA‘堆垛等)堆垛構(gòu)成的一種二維碳材料。

 少層石墨烯(Few-layer):指由3-10層以苯環(huán)結(jié)構(gòu)(即六角形蜂巢結(jié)構(gòu))周期性緊密堆積的碳原子以不同堆垛方式(包括ABC堆垛,ABA堆垛等)堆垛構(gòu)成的一種二維碳材料。

油性石墨漿料研磨設(shè)備


 多層或厚層石墨烯(multi-layer graphene):指厚度在10層以上10nm以下苯環(huán)結(jié)構(gòu)(即六角形蜂巢結(jié)構(gòu))周期性緊密堆積的碳原子以不同堆垛方式(包括ABC堆垛,ABA堆垛等)堆垛構(gòu)成的一種二維碳材料。

 石墨烯(Graphenes):是一種二維碳材料,是單層石墨烯、雙層石墨烯和多層石墨烯的統(tǒng)稱。


石墨烯主要制備方法:
制備石墨烯常見(jiàn)的方法為機(jī)械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長(zhǎng)法和化學(xué)氣相沉積法(CVD)。


1.機(jī)械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對(duì)運(yùn)動(dòng),得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單,得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結(jié)構(gòu),但是得到的片層小,生產(chǎn)效率低。

墨層之間的間距,再通過(guò)物理方法將其分離,***后通過(guò)化學(xué)法還原,得到石墨烯的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單,產(chǎn)量高,目前國(guó)內(nèi)使用氧化,還原法制作石墨烯漿料的,如:寧波墨
稀、東莞鴻納、第六元素等企業(yè),
3.SiC外延法是通過(guò)在超高真空的高溫環(huán)境下,使硅原子升華脫離材料,剩下的C原子通過(guò)自組形式重構(gòu),從而得到基于SiC襯底的石墨烯。這種方法可以獲得高質(zhì)量的石墨烯,但是這種方法對(duì)設(shè)備要求較高

4.CVD也叫氣相沉積法是目前有可能實(shí)現(xiàn)工業(yè)化制備高質(zhì)量、大面積石墨烯的方法。這種方法制備的石墨烯具有面積大和質(zhì)量高的特點(diǎn),國(guó)內(nèi)用氣相沉積法制作石墨烯漿料的如 重慶墨稀、常州第六元素等企業(yè)


GMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力,對(duì)高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

油性石墨漿料研磨設(shè)備


油性石墨漿料研磨設(shè)備設(shè)備選型表:

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。


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