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產(chǎn)品展示/ Product display

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半導(dǎo)體單壁碳納米管分散機

半導(dǎo)體單壁碳納米管分散機,專為解決半導(dǎo)體單壁碳納米管分散難題而設(shè)。設(shè)備運用高速剪切、強力研磨等技術(shù),借高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子與定子,對物料施加*作用力,打破碳納米管團聚體,使其均勻分散于溶劑或樹脂體系,廣泛用于電子器件、復(fù)合材料等領(lǐng)域 。

  • 產(chǎn)品型號:GRS2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-09-12
  • 訪  問  量:679
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詳細介紹

半導(dǎo)體單壁碳納米管分散機

單壁碳納米管以其du特而且優(yōu)異的物理化學(xué)性質(zhì)在諸多領(lǐng)域上的應(yīng)用 方面展現(xiàn)了很好的發(fā)展前景。目前存在的制備單壁碳納米管(SWNTs)的方法得到的都是不同導(dǎo)電性,不同手性混合的樣品,他們的區(qū)別主要是由直徑和螺旋角 和手性指數(shù)決定的。于是金屬性SWNTs與半導(dǎo)體性SWNTs(m-SWNTs,s-SWNTs)及不同手性的單壁碳納米管的分離技術(shù)就顯得尤為重要。


碳納米管導(dǎo)電漿料及其制備方法

碳納米管導(dǎo)電漿料主要由碳納米管、其他導(dǎo)電填料、分散助劑、和溶劑組成,其質(zhì)量百分比組成為:碳納米管:0.5-15%,其他導(dǎo)電物質(zhì)0.1-2%,分散助劑:0.1-5%,其余為溶劑。


該碳納米管導(dǎo)電漿料制備方法為:首先將分散助劑溶解在溶劑中,然后在攪拌條件下加入碳納米管和其他導(dǎo)電填料,待碳納米管和其他導(dǎo)電填料充分浸潤后,采用SID研磨分散機對漿料進行研磨分散,幾小時后即可得到穩(wěn)定分散的碳納米管導(dǎo)電漿料。本發(fā)明方法簡單,不破壞碳納米管結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電性,所制得的碳納米管導(dǎo)電漿料具有優(yōu)良的導(dǎo)電性,且性質(zhì)穩(wěn)定均一,靜置3個月后,漿料穩(wěn)定性>90%。

對于碳納米管漿料以及其他鋰電池漿料的研磨分散,普遍存在著2個難以解決的問題:
  
   1、研磨的細度,傳統(tǒng)的設(shè)備研磨設(shè)備是通過刀頭去磨細,這樣經(jīng)常會破壞碳納米管結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電性,使物料變性。而SID研磨分散機,細化物料更多的是通過物料與物料直接的撞擊來完成研磨細化的功能,不會破壞物料結(jié)構(gòu)。

   2、容易形成二級團聚體,在碳納米管粒徑細化之后,由于分子之間的作用力,小的物料又會二次團聚,從而影響zui終產(chǎn)品的物料粒徑以及分散的效果。SID研磨分散機很好的克服了二級團聚的現(xiàn)象,SID研磨分散機是研磨機和分散機一體化的設(shè)備,在碳納米管漿料粒徑細化后,瞬間通過分散工作腔,進行分散,避免二次團聚的現(xiàn)象。

半導(dǎo)體單壁碳納米管分散機


半導(dǎo)體單壁碳納米管分散機,GMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

GMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

研磨分散機的特點:

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念,將先進的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供chao強切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封,程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國際xian進的受控切割技術(shù),將纖維類物料粉碎細度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

半導(dǎo)體單壁碳納米管分散機

GMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表:

標準流量

輸出轉(zhuǎn)速

標準線速度

馬達功率

L/H

rpm

m/s

KW

GRS2000/4

300

14000

44

4

DN25

DN15

GRS2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

GRS2000/10

3000

7500

44

22

DN50

DN50

GRS2000/20

20000

4900

44

45

DN80

DN65

GRS2000/30

40000

2850

44

75

DN150

DN125

GRS2000/50

60000

2000

44

160

DN200

DN150






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